光学式膜厚モニター及びそれを用いた成膜装置

Optical film thickness monitor and coating device using the same

Abstract

【課題】 エアロゾルデポジション(AD法)に適したその場測定可能な光学式膜厚モニター及びそれを用いた成膜装置を提供する。 【解決手段】 基板49上に供給した超微粒子脆性材料に機械的衝撃力を負荷して超微粒子脆性材料を接合させ成形体を形成する成膜装置の光学式膜厚モニターであって、測定プローブ410の端面から成形体に白色光を入射し、成形体からの反射率スペクトルを測定し、反射率スペクトルの波長域が超微粒子脆性材料の粒径よりも長い条件下で、反射率スペクトルの干渉状態から成形体の膜厚と屈折率を導出する。 【選択図】 図4
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical film thickness monitor which is suitable for aerosol deposition (AD method) and is used for on-the-spot measurement, and to provide a coating device that uses the same. SOLUTION: This optical film thickness monitor is used for a coating device, wherein ultrafine-particle brittle materials supplied onto a substrate 49, are loaded with a mechanical impact force to cause the brittle materials to join to each other, and a compact is formed. White light is inputted into the compact from an end face of a measuring probe 410, to measure the reflectance spectra coming from the compact, and the film thickness and reflectance of the compact are derived from the interfering state of the reflectance spectrum, under conditions where the wavelength band of the reflectance spectrum is larger than the particle diameters of the brittle materials. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

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